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Intelが超微細プロセスの量産に対応する高NA EUV露光装置をASMLに発注 Intelが超微細プロセスの量産に対応する高NA EUV露光装置をASMLに発注
IntelとASMLは1月19日(現地時間)、IntelがASMLの現行の開口率NA=0.33のEUV露光装置の次世代機となるNA=0.55の高NA EUV露光装置の量産対応機「TWINSCAN EXE:5200」の購入に向けた最初の発注を行ったことを明らかにした。
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